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羅姆第4代SiC MOSFET,三大優(yōu)勢凸顯!

工程師兵營 ? 2023-03-10 11:49 ? 次閱讀

隨著應(yīng)用場景多元化發(fā)展,對設(shè)備提出了更高的要求,以碳化硅(SiC)、氮化鎵為代表的第三代半導(dǎo)體材料逐漸進入產(chǎn)業(yè)化加速放量階段。因其高熱導(dǎo)性、高擊穿電場強度及高電流密度特點,可應(yīng)用于汽車、充電設(shè)備、便攜式電源通信設(shè)備、機械臂、飛行器等多個工業(yè)領(lǐng)域。

關(guān)于碳化硅開發(fā),全球知名半導(dǎo)體制造羅姆一直在努力研發(fā)技術(shù),產(chǎn)品不斷推陳出新。在2023年媒體交流會上,羅姆半導(dǎo)體(上海)有限公司市場宣傳課高級經(jīng)理張嘉煜和羅姆半導(dǎo)體(上海)有限公司技術(shù)中心副總經(jīng)理周勁分別介紹了羅姆公司最新動態(tài)以及碳化硅功率器件的相關(guān)技術(shù)。

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羅姆半導(dǎo)體(上海)有限公司市場宣傳課高級經(jīng)理張嘉煜表示,羅姆擁有世界先進的碳化硅及氮化鎵技術(shù),打造了高效處理電力的功率半導(dǎo)體器件,面向汽車、工業(yè)設(shè)備等應(yīng)用場景當(dāng)中。

羅姆半導(dǎo)體(上海)有限公司技術(shù)中心副總經(jīng)理周勁,羅姆有著20多年的歷史,時間節(jié)點從2000年開始研發(fā)碳化硅產(chǎn)品,在2010年在全球首家進行碳化硅SBD和MOSFET的量產(chǎn),之后在2021年發(fā)布了第4代的溝槽SiC MOSFET,2023年實現(xiàn)8英寸碳化硅襯底的量產(chǎn),陸續(xù)會推出牽引功率模塊的產(chǎn)品。

據(jù)介紹,羅姆第4代SiC MOSFET利用羅姆自有設(shè)計技術(shù),進一步改進了雙溝槽結(jié)構(gòu),從而改善了上述權(quán)衡關(guān)系,與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比,在不犧牲短路耐受時間的前提下,成功將導(dǎo)通電阻降低約40%,實現(xiàn)了行業(yè)更低的導(dǎo)通電阻驅(qū)動電壓。核心有三大優(yōu)勢,即低損耗、使用簡單和高可靠性。

  • 低損耗:第4代新產(chǎn)品對比羅姆的第3代產(chǎn)品,通過降低40%導(dǎo)通阻抗,同樣尺寸芯片,第3代大約是30毫歐,第4代能夠?qū)崿F(xiàn)18毫歐的導(dǎo)通阻抗降低,導(dǎo)通損耗會同樣降低40%;
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  • 使用簡便:第3代產(chǎn)品15V驅(qū)動和18V驅(qū)動,導(dǎo)通阻抗差是30%,也就是說用15V IGBT通用電壓驅(qū)動不能實現(xiàn)SiC MOSFET的理想狀態(tài),第4代產(chǎn)品可以在15V情況下滿足一般狀態(tài)的碳化硅全負(fù)載驅(qū)動;
  • 高可靠性:采用獨特的器件結(jié)構(gòu)突破了RonA與短路耐受時間(SCWT)的折中限制,實現(xiàn)了比同類產(chǎn)品更高的短路耐受時間。降低RonA后,通常飽和電流會上升,短路時的峰值電流也會上升,短路耐量時間變短,羅姆第4代產(chǎn)品在降低RonA的同時使飽和電流下降,短路時的峰值電流較低,成功延長了短路耐受時間。
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當(dāng)前,羅姆第4代SiC MOSFET的應(yīng)用包括電動汽車主機逆變器、車載充電器、充電樁、光伏逆變器、數(shù)據(jù)中心、基站等高電壓和大容量場景,有助于提高電力轉(zhuǎn)換效率,使設(shè)備更加節(jié)能。

小結(jié):羅姆一直在不斷提升碳化硅元器件的性能,并以晶圓、芯片、分立產(chǎn)品和模塊等豐富的供應(yīng)形式投放市場,擴大產(chǎn)能持續(xù)推動賦能汽車等行業(yè)的低碳技術(shù),實現(xiàn)社會的可持續(xù)發(fā)展。與此同時,羅姆會提供基礎(chǔ)的應(yīng)用知識、Spice模型、應(yīng)用筆記、在線仿真PCB設(shè)計支持等,以助力產(chǎn)品開發(fā),繁榮生態(tài)!

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