本文研究了金屬蝕刻殘留物，尤其是鈦和鉭殘留物對等離子體成分和均勻性的影響。通過所謂的漂浮樣品的x射線光電子能譜分析來分析室壁，并且通過光發(fā)射光譜來監(jiān)測Cl2、HBr、O2和SF6等離子體中的Cl
2022-05-05 14:26:56
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我們?nèi)A林科納討論了一些重要的等離子體蝕刻和沉積問題（從有機硅化合物）的問題，特別注意表面條件，以及一些原位表面診斷的例子。由于等離子體介質(zhì)與精密的表面分析裝置不兼容，講了兩種原位表面調(diào)查的技術(shù)
2022-05-19 14:28:151731 
臺積電0.18工藝電源電壓分別是多少？是1.8v跟3.3v嗎？
2021-06-25 06:32:37
臺積電宣布5nm基本完工開始試產(chǎn)：面積縮小45%、性能提升15%.pdf(105.52 KB)
2019-04-24 06:00:42
` 觀點：在技術(shù)領先的優(yōu)勢下，臺積電獲得蘋果iPhone5芯片追加訂單已成事實。然而，在iPhone 5推出后，蘋果已朝下一世代A7處理器邁進，臺積電憑借技術(shù)領先的優(yōu)勢，預估未來1-2年內(nèi)
2012-09-27 16:48:11
臺積電正在大量生產(chǎn)用于蘋果iPhone8手機的10nm A11處理器。消息稱，蘋果可能在下個月初正式發(fā)布iPhone 8，但是具體發(fā)貨日期仍然不確定。 據(jù)悉，臺積電已經(jīng)采用10nm FinFET
2017-08-17 11:05:18
液晶顯示器(LCD)之后的最新顯示技術(shù)之一。這種顯示器能夠用作適應數(shù)字化時代的各種多媒體顯示器，適用于制造大屏幕和薄型彩色電視機等，有著廣闊的應用前景。等離子體顯示器具有體積小、重量輕、無X射線輻射
2011-01-06 16:09:23
空間。在兩塊玻璃基板的內(nèi)側(cè)面上涂有金屬氧化物導電薄膜作激勵電極。 當向電極上加入電壓，放電空間內(nèi)的混合氣體便發(fā)生等離子體放電現(xiàn)象。色彩還原能力好，顯示色彩自然。由于等離子電視是通過紫外線激發(fā)熒光粉發(fā)光
2014-02-10 18:20:48
當高頻發(fā)生器接通電源后，高頻電流I通過感應線圈產(chǎn)生交變磁場(綠色)。開始時，管內(nèi)為Ar氣，不導電，需要用高壓電火花觸發(fā)，使氣體電離后，在高頻交流電場的作用下，帶電粒子高速運動，碰撞，形成“雪崩”式放電，產(chǎn)生等離子體氣流。
2019-10-09 09:11:46
合有局限，不適用于聚四氟乙烯微波板的三防涂覆前處理。 基于以上原因，開展了應用等離子體處理法替代鈉萘處理法進行聚四氟乙烯表面活化處理的研究工作。
2019-05-28 06:50:14
或高溫等特殊環(huán)境中才能產(chǎn)生等離子體。為了區(qū)別于傳統(tǒng)的高溫等離子體，人們稱之為低溫大氣壓等離子體（低溫等離子體）。低溫等離子體照射材料會產(chǎn)生多種影響。它們可以通過分解有機材料來清潔和消毒物體，通過增加
2022-05-18 15:16:16
等離子體顯示器又稱電漿顯示器，是繼CRT(陰極射線管）、LCD（液晶顯示器）后的最新一代顯示器，其特點是厚度極薄，分辨率佳。可以當家中的壁掛電視使用，占用極少的空間，代表了未來顯示器的發(fā)展趨勢（不過對于現(xiàn)在中國大多...
2021-04-20 06:33:47
%。西安二廠預計將生產(chǎn)13.5萬片，比之前的14.5萬片減少了約7%。業(yè)界觀察人士認為，三星選擇砍掉部分NAND產(chǎn)能，因為當前內(nèi)存市場形勢慘淡。
【臺積電28nm設備訂單全部取消！】
4月消息，由于
2023-05-10 10:54:09
以內(nèi)的分子鍵，誘導削減一定厚度，生成凹凸表面，同時形成氣體成分的官能團等表面的物理、化學變化，提高鍍銅粘結(jié)力、除污等抄板作用。 上述等離子體處理用氣體常見的有氧氣、氮氣和四氟化碳氣。下面通過由氧氣和四
2018-11-22 16:00:18
，提高鍍銅粘結(jié)力、除污等抄板作用。麥|斯|艾|姆|P|CB樣板貼片,麥1斯1艾1姆1科1技全國1首家P|CB樣板打板 上述等離子體處理用氣體常見的有氧氣、氮氣和四氟化碳氣。下面通過由氧氣和四氟化碳氣所
2013-10-22 11:36:08
特殊板材，采用圖形蝕刻后電鍍可焊性涂覆層時，由于線路邊緣蝕刻不凈的銅微粒的存在，會造成陰影電鍍現(xiàn)象，嚴重時將導致產(chǎn)品報廢。此時，可選用等離子體處理技術(shù)，通過燒蝕的方法將銅的細小微粒除去，最終實現(xiàn)合格產(chǎn)品的加工。
2018-09-21 16:35:33
`電路板廠家生產(chǎn)高密度多層板要用到等離子體切割機蝕孔及等離子體清洗機.大致的生產(chǎn)工藝流程圖為:PCB芯板處理→涂覆形成敷層劑→貼壓涂樹脂銅箔→圖形轉(zhuǎn)移成等離子體蝕刻窗口→等離子體切割蝕刻導通孔→化學
2017-12-18 17:58:30
等離子清洗機工作原理1、何謂等離子清洗機 等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物
2012-09-25 16:21:58
或高溫等特殊環(huán)境中才能產(chǎn)生等離子體。為了區(qū)別于傳統(tǒng)的高溫等離子體，人們稱之為低溫大氣壓等離子體（低溫等離子體）。低溫等離子體照射材料會產(chǎn)生多種影響。它們可以通過分解有機材料來清潔和消毒物體，通過增加
2022-05-17 16:41:13
轉(zhuǎn)自http://www.eet-china.com/ART_8800697889_480201_NT_08124b24.HTM臺積電借16nm FinFET Plus及InFO WLP 通吃英特爾
2014-05-07 15:30:16
，等離子體仿真實戰(zhàn)COMSOL Multiphysics 半導體器件電、熱、力多場耦合模塊1.對器件的電學、固體傳熱、流體傳熱及力學基礎理論分析2.對焦耳熱、流固熱傳遞、結(jié)構(gòu)熱應力理論化分析3.電熱、熱力、流
2019-12-10 15:24:57
uPD16305的性能特點是什么？uPD16305在等離子體顯示器中有什么應用？
2021-06-04 06:54:10
大多數(shù) III 族氮化物的加工都是通過干式等離子體蝕刻完成的。 干式蝕刻有幾個缺點，包括產(chǎn)生離子誘導損傷 并且難以獲得激光所需的光滑蝕刻側(cè)壁。通過干法蝕刻產(chǎn)生的側(cè)壁的粗糙度約為 50 nm，盡管最近
2021-07-07 10:24:07
芯片PMIC 5即將問世，由于改為BCD制程，臺積電憑借先進制程技術(shù)優(yōu)勢，可望拿下高通新一代PMIC 5訂單約70~80%數(shù)量，并牽動高通電源管理芯片代工廠大洗牌。 業(yè)界推估高通各種用途電源管理芯片的年
2017-09-22 11:11:12
了高通的訂單。之后，中芯國際憑借極具競爭力的價格從Globalfoundries手中奪走了訂單，成為高通電源管理芯片的主要合作伙伴。我們知道，在高通的幫助下，中芯國際實現(xiàn)了28nm工藝量產(chǎn)，而且還加快14nm硅片的量產(chǎn)。由于產(chǎn)能、價格及新芯片技術(shù)的原因，此次高通將電源管理芯片交給了臺積電生產(chǎn)。
2017-09-27 09:13:24
;nbsp; 很多人會回答：我想當高級主管，進臺積聯(lián)電賺股票。因為我崇拜張忠謀、曹興誠。以下是我就業(yè)三年以來，對***電子信息產(chǎn)業(yè)的一些看法： &
2009-08-23 11:28:40
”。目前中國中微半導體的5 nm等離子體刻蝕機已經(jīng)通過臺積電驗證，與國際刻蝕機巨頭泛林、應用材料、東京電子、日立屬于國際第一梯隊，屬于技術(shù)領先陣列，但是光刻機就差多了。縱觀全球市場，占據(jù)著絕大部分光刻機
2019-08-10 14:36:57
從7nm到5nm，半導體制程芯片的制造工藝常常用XXnm來表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工藝。所謂的XXnm指的是集成電路的MOSFET晶體管柵極
2021-07-29 07:19:33
量大、操作簡單、成本低、無二次污染等特點，成為今年來研究的熱點。低溫等離子體治理異味氣體，是利用產(chǎn)生的高能電子的作用，通過碰撞將能量轉(zhuǎn)化為污染物分子的內(nèi)能或動能，這些獲得能量的分子被激發(fā)或發(fā)生電離形成
2022-04-21 20:29:20
Research、東京電子和中微半導體，而通過臺積電5nm工藝認證的則更少。在這個領域，中國大陸的中微半導體取得了可喜的進步，其5nm蝕刻機已經(jīng)打入臺積電供應鏈。中微半導體主要生產(chǎn)蝕刻機、MOCVD等設備
2020-03-09 10:13:54
的芯片可以繼續(xù)涂膠、曝光。越復雜的芯片，線路圖的層數(shù)越多，也需要更精密的曝光控制過程。等離子刻蝕刻機等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等
2018-09-03 09:31:49
7nm以下的工藝也將導入EUV技術(shù)。據(jù)***媒體報道，臺積電5nm制程將于今年第二季度量產(chǎn)。據(jù)臺積電介紹， 5nm是臺積公司第二代使用極紫外光（EUV）技術(shù)的制程，其已展現(xiàn)優(yōu)異的光學能力與符合預期的良好
2020-02-27 10:42:16
各類常用工藝庫臺積電，中芯國際，華潤上華
2015-12-17 19:52:34
1.引言微波測量方法是將電磁波作為探測束入射到等離子體中，對等離子體特性進行探測，不會對等離子體造成污染。常規(guī)微波反射計也是通過測量電磁波在等離子體截止頻率時的反射信號相位來計算等離子密度。當等離子
2019-06-10 07:36:44
【作者】：呂鵬;劉春芳;張潮海;趙永蓬;王騏;賈興;【來源】：《強激光與粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍縮放電等離子體極紫外光源系統(tǒng)中的主脈沖電源,給出了主電路拓撲結(jié)構(gòu),重點介紹了三級磁
2010-04-22 11:41:29
電子設備的價格將上漲。臺積電是蘋果的主要芯片供應商，為蘋果制造5nm芯片，用于iPhone 12、MacBook等產(chǎn)品中。而芯片是設備中最重要和最昂貴的組件之一。例如，iPhone 12最昂貴的三個
2021-09-02 09:44:44
spec-troscopy,LIBS)是近年發(fā)展起來的一種基于激光與材料相互作用的物理學與光譜學交叉的物質(zhì)組分定量分析技術(shù)[1-3]。其原理是利用聚焦的強激光束入射樣品表面產(chǎn)生激光等離子體,等離子體輻射光譜含有被測物質(zhì)的組分和組分全文下載
2010-04-22 11:33:27
表面波等離子體激勵源設計，不看肯定后悔
2021-04-22 07:01:33
，5nm也該提上日程了。1月中旬，臺積電召開財報會議，董事長、被譽為***半導體教父的張忠謀親自出席，執(zhí)行CEO劉德音和魏哲家聯(lián)席。2015年，臺積電合并總營收額為8434.97億元新臺幣（約為
2016-01-25 09:38:11
等離子體NOX 脫除技術(shù)作為一種脫硝新工藝，受到世界各國的廣泛關(guān)注。在敘述了等離子體脫硝的的兩種反應機理、等離子體NOX 脫除的主要方法（電子束照射法、高壓脈沖電暈法
2009-02-13 00:35:58
12 采用分層介質(zhì)方法處理非均勻等離子體層，研究了電磁波射向覆蓋磁化等離子體層的金屬平板時電磁波的衰減特性。著重討論Epstein密度分布的等離子體層，分析了等離子體電子密
2009-03-14 15:07:3426 一種大氣微波環(huán)形波導等離子體設備:微波等離子體相對其它等離子體而言有很多的優(yōu)點，具有極高的工業(yè)應用價值。但在大氣條件下，大體積的微波等離子體較難獲得
2009-10-29 13:59:3214 斜輻照激光等離子體輻射X光子特性:在神光Ⅱ高功率激光裝置上，實驗研究了激光斜輻照形成的激光等離子體輻射X射線光子的特性及真空噴射熱等離子體流的方向。采用
2009-10-29 14:11:3915 推導了磁場作用下等離子體流動的控制方程，采用加入人工粘性項的MacCormack二階格式對方程進行了離散。計算了在不同磁場作用下，一維理想磁控等離子體在激波管內(nèi)的流動情況
2010-01-11 11:39:5210 因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準射頻等離子體源 RF2100ICP Plasma Source上海伯東代理美國 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
人類生活對能源的需求核聚變及受控核聚變原理等離子體約束的基本問題等離子體約束的各種模式等離子體輸運與能量約束定標約束改善與邊緣局域模控制總結(jié)和
2010-05-30 08:26:5614 利用微波在介質(zhì)表面激發(fā)出截止密度以上的等離子體，然后微波在介質(zhì)與等離子體間形成表面波的傳輸，具有一定電場強度的表面波在其傳輸?shù)姆秶鷥?nèi)可生成和維持高密度的等離子
2010-07-29 11:00:011057 
根據(jù)靜電場理論給出了描述鞘層電位的Poisson方程、等離子體理論和Boltzmann方程，給出了粒子數(shù)密度守恒方程。通過牛頓運動定律建立了等離子體的動量方程。基于Poisson方程、粒子數(shù)密
2012-02-09 16:43:2117 等離子體鎢極氬弧焊接槍為研究對象，通過求等離子體弧柱區(qū)域的能量方程、動量守恒、質(zhì)量守恒及電流連續(xù)性方程。得到溫度、速度、電流密度分布。
2012-03-28 15:20:2131 下小電流（0.1A）放電產(chǎn)生的低溫等離子體進行了診斷。首先利用傅里葉變換和Abel逆變換，根據(jù)莫爾條紋圖像提取了等離子體折射率分布曲線。然后通過求解等離子體物理方程，建立等離子體折射率與溫度之間的對應關(guān)系。最后通過
2018-01-02 16:37:196 國內(nèi)的中微電子已經(jīng)研發(fā)成功5nm等離子刻蝕機，并通過了臺積電的認證，將用于全球首條5nm工藝。
2018-12-20 08:55:2624197 中微半導體設備（上海）有限公司自主研制的5納米等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線。
2018-12-29 08:48:140 等離子體可以通過多種方式來產(chǎn)生，常見的方法主要包括：熱電離法/射線輻照法/光電離法/激波等離子法/激光等離子法/氣體放電法等。氣體放電是指氣體在電場的作用下被擊穿引起的導電現(xiàn)象，而低溫等離子體的產(chǎn)生方式主要是通過氣體放電來實現(xiàn)的。下面主要介紹通過氣體放電來產(chǎn)生低溫等離子體的各種方式
2019-04-22 08:00:0035 等離子體位移快控電源設計(現(xiàn)代電源技術(shù)基礎下載)-等離子體位移快控電源設計等離子體位移快控電源設計
2021-09-29 17:45:395 反應性離子蝕刻綜合了離子蝕刻和等離子蝕刻的效果：其具有一定的各向異性，而且未與自由基發(fā)生化學反應的材料會被蝕刻。首先，蝕刻速率顯著增加。通過離子轟擊，基材分子會進入激發(fā)態(tài)，從而更加易于發(fā)生反應。
2022-09-19 15:17:553667 何時完全蝕刻了一個特定的層并到達下一個層。通過監(jiān)測等離子體在蝕刻過程中產(chǎn)生的發(fā)射線，可以精確跟蹤蝕刻過程。這種終點檢測對于使用基于等離子體的蝕刻工藝的半導體材料生產(chǎn)至關(guān)重要。 等離子體是一種被激發(fā)的、類似氣
2022-09-21 14:18:37743 
近年來，等離子體技術(shù)的使用范圍正在不斷擴大。在半導體制造、殺菌消毒、醫(yī)療前線等諸多領域，利用等離子體特性的應用不斷壯大。CeraPlas? 是TDK 開發(fā)的等離子體發(fā)生器，與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比，它可以在緊湊的封裝中產(chǎn)生低溫等離子體*1，并具有更低的功耗。它有望促進各種設備的開發(fā)，使離子體技術(shù)更容易使用。
2023-02-27 17:54:38840 
氧等離子體和氫等離子體都可用于蝕刻石墨烯。兩種石墨烯氣體等離子刻蝕的基本原理是通過化學反應沿石墨烯的晶面進行刻蝕。不同的是，氧等離子體攻擊碳碳鍵后形成一氧化碳、二氧化碳等揮發(fā)性氣體，而氫等離子體則形成甲烷氣體并與之形成碳氫鍵。
2022-06-21 14:32:25452 
等離子體清洗技術(shù)自問世以來，隨著電子等行業(yè)的快速發(fā)展，其應用范圍逐漸擴大，用于活化蝕刻和等離子體清洗，以提高膠粘劑的粘接性能。
2022-07-04 16:09:18496 
隨著集成電路互連線的寬度和間距接近3pm，鋁和鋁合金的等離子體蝕刻變得更有必要。為了防止蝕刻掩模下的橫向蝕刻，我們需要一個側(cè)壁鈍化機制。盡管AlCl和AlBr都具有可觀的蒸氣壓，但大多數(shù)鋁蝕刻的研究
2023-06-27 13:24:11377 
等離子體工藝是干法清洗應用中的重要部分，隨著微電子技術(shù)的發(fā)展，等離子體清洗的優(yōu)勢越來越明顯。文章介紹了等離子體清洗的特點和應用，討論了它的清洗原理和優(yōu)化設計方法。最后分析了等離子體清洗工藝的關(guān)鍵技術(shù)及解決方法。
2023-10-18 17:42:36582 
基于GaN的高電子遷移率，晶體管，憑借其高擊穿電壓、大帶隙和高電子載流子速度，應用于高頻放大器和高壓功率開關(guān)中。就器件制造而言，GaN的相關(guān)材料，如AlGaN，憑借其物理和化學穩(wěn)定性，為等離子體蝕刻
2023-12-13 09:51:24419 
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